Bildverarbeitung (News)
Schnelle bildbasierte Ausrichtung von Wafern
Mit dem Wafer-Reader In-Sight-1820 der Vision System Produktfamilie von Cognex und seinen zuverlässigen Geometrie-orientierten Bildverarbeitungs-Algorithmen der PatMax-Technologie ist eine hochgenaue Positionsbestimmung und Ausrichtung von Wafern möglich.
Die speziell für die Wafer-Industrie entwickelte und optimierte Ausrichtungstechnologie NotchMax ermöglicht die schnelle und präzise Bestimmung von Position und Ausrichtung. Gegenüber den klassischen mechanischen Ausrichtungssystemen arbeitet diese kontaktlose Arbeitsweise schneller und ermöglicht eine höhere Flexibilität in den Fertigungslinien.
Die Ausrichtung der Wafer erfolgt mit einer Zentriergenauigkeit von ± 15 µm und einer Ausrichtungsgenauigkeit von ± 0,05 °. Innerhalb des Prozesses können dadurch Zwischenschritte entfallen und der Durchsatz gesteigert sowie mechanische Beschädigungen vermieden werden.
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